高純度のエチレンカーボネートです。エチレンカーボネートは、高極性溶媒であり、電解質を大量に溶解できることから、リチウムイオン二次電池向け電解液の溶媒用途に主に使用されている他、高分子に対する溶解性が高い事から、剥離剤、洗浄剤としても使用されています。　当社製品は、低不純物、低水分と高い品質レベルにより、厳しい品質水準を要求される需要分野で高い評価を得ております。
CAS:No.96-49-1
EINECS:No.202-510-0
化審法:No.5－523

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エチレンカーボネートは、高極性溶媒であり、電解質を大量に溶解できることから、リチウムイオン二次電池向け電解液の溶媒用途に主に使用されている他、高分子に対する溶解性が高い事から、剥離剤、洗浄剤としても使用されています。　当社製品は、低不純物、低水分と高い品質レベルにより、厳しい品質水準を要求される需要分野で高い評価を得ております。
CAS:No.96-49-1
EINECS:No.202-510-0
化審法:No.5－523

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アクリル樹脂の光透過性を活かした高性能プラスチック光ファイバー。軽量かつ柔軟で、加工性に優れるなど、石英系光ファイバーには無い大きな特長があります。車載ネットワーク、照明、センサー、FA（Factory Automation）、情報通信等の分野へも展開を進めています。

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ロッドスコープは、ロッドレンズを基板上に規則的に配列させたもの（アレイ）で、小型化・軽量化が実現可能なCIS（Contact Image Scanner）方式の画像読取り用キーデバイスとして、複合プリンター、ファクシミリ、各種スキャナーなどに幅広く使用されています。

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超高純度の合成石英粉。高純度・低異物を要求される高機能石英ガラス（シリカガラス）の原料として最適です。

CASNo.：

60676-86-0

EINECS：

262-373-8

化審法：

1-548

安衛法：

1-548

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Siエッチ シリーズは、スピンエッチング装置用のシリコンウェハエッチング液で、ウェハ裏面の加工変質層を除去します。

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半導体製造時のウェットエッチングで使用されるEL薬品です。次のエッチング液を取り扱っています。
Al エッチング液、Si エッチング液

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半導体製造工程におけるシリコンウエハの洗浄においては、近年の半導体回線幅の微細化にあわせ、高度なパーティクル・メタルの除去が求められています。三菱ケミカルの電子工業用高純度プロセス薬品はそれらの要求に応え、10ppt以下のメタル不純物レベルの高純度性を備えています。
取扱品目：EL塩酸、EL硝酸、EL安水

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AM1は高いパーティクル除去性とメタル除去性を併せ持つ高機能洗浄剤で、EL薬品の一種です。バッチ・枚葉洗浄共に適用可能な高性能RCA代替洗浄剤です。さらに、シリコンを腐食しないため、メタルゲート用洗浄剤としても優れた性能を持っています。

• 枚葉洗浄剤（高清浄な表面を短時間で実現）
• メタルゲート用洗浄剤（タングステン・シリコンの腐食防止）

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MC1は電子工業用の高機能洗浄剤で、EL薬品の一種です。高性能なRCA代替洗浄剤です。パーティクルとメタルの除去性を併せ持つことにより、RCA洗浄の工程数を減少させ、お客様のトータルコスト低減に貢献いたします。

• 金属汚染の低減
• クロスコンタミ防止

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半導体の製造工程のひとつである、Cu/Low-k膜のCMPの後洗浄工程においては、基板への腐食やダメージを与えずに、Cu配線上・Low-k膜上に残留するスラリー由来の有機残渣やパーティクルを除去する技術が求められています。三菱ケミカルのMCX-SDR4はそれら要求に応え、高い洗浄効果を実現する電子工業用高機能洗浄剤です。

• 高いパーティクル除去性
• 有機残渣の効果的除去
• Cu配線ガルバニック腐食低減
• Low-kダメージ低減
• Low-k面濡れ性向上

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三菱ケミカル製の窒化ガリウム（GaN）基板は、自社で永年培ってきたHVPEと呼ばれるエピタキシャル技術と化合物半導体の加工技術を用いた、高品質な単結晶基板です。 均一かつ高品位な結晶性と表面品質が特長です。プロジェクター光源や高輝度ヘッドライトに使用される青色及び緑色レーザーダイオード（LD）用基板として使用されています。
また、より低欠陥・高生産性を実現すべく、アンモニアの超臨界状態を活用したSCAAT™ ^(*)及びSCAAT™-LP^(**)の開発を行い、パワーデバイスや高周波デバイスなどのパワーエレクトロニクス用基板として、幅広い用途展開を進めていきます。

• *SCAAT™は、三菱ケミカル株式会社が実施する酸性アモノサーマル技術のブランドネームです。 この技術は、当社が国立大学法人東北大学及び株式会社日本製鋼所の協力で開発したものです。
• **SCAAT™ -LPは、三菱ケミカル株式会社及び株式会社日本製鋼所が実施する低圧酸性アモノサーマル技術のブランドネームです。 この技術は、国立大学法人東北大学、株式会社日本製鋼所、三菱ケミカル株式会社の３者で共同開発したものです。

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トナーは、プリンターや複写機で画像を印刷するための基幹部材です。

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OPC（有機感光体）ドラムは、プリンターや複写機で画像を印刷するための基幹部材です。

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シンチレータはX線などの放射線を可視光に変換する材料で、TFTやCCD、CMOSセンサーなどの光検出器と組み合わせることで、測定物の画像を効率的にデジタルイメージに変換することができます。 三菱ケミカルのシンチレータは独自の蛍光体製造技術及び加工ノウハウにより医療用X線画像診断装置や手荷物検査装置などに使用されるDRZシリーズをはじめ、異物検査用などの高速ラインセンサーに使用されるShort Decay and Low Afterglow Type(短残光）など、優れたデジタルX線撮影装置用シンチレータを製品化しています。

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• レントゲン検査・非破壊検査に使用されるシンチレータ[別窓表示]

蛍光体とは、紫外線や可視光など、外部からの光エネルギーを吸収し、光に変換する材料です。
三菱ケミカルでは、半世紀以上にわたる蛍光体開発・製造経験を持ち、その過程で培った卓越した蛍光体製造技術により、光デバイス（LED・レーザー等）用蛍光体を提供しております。

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三菱ケミカルのリチウムイオン二次電池用負極材には、天然黒鉛系のMPGと人造黒鉛系のICGがあります。MPGは急速充放電に優れた特性を有します。ICGは高容量で優れた寿命特性を有しております。

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高機能モ－ルディングシステムズ事業は、滋賀県長浜市・岐阜県大垣市に生産拠点を有し、射出成形をベースに事業展開しています。自動車分野を中心に様々な分野で、常にお客様のニーズを先取りしながら、金型製作から製品の納入まで一貫した生産フローのもと、高品質な製品を提供致します。各種射出成形技術だけでなく、様々な塗装技術を有し、内製体制を構築しています。

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• MCCアドバンスドモールディングス株式会社のホームページ[別窓表示]

CASNo.：

23117-36-4

TSCA：

収載

化審法：

(3)-4442

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• 株式会社新菱「CHDMMA」[別窓表示]

塗料・被覆材料の低温硬化性、柔軟性、架橋性、耐擦傷性や耐酸性雨性を向上させる高架橋性アクリレート

CASNo.：

119692-59-0

TSCA：

収載

化審法：

(5)-6751

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• 株式会社新菱「4HBAGE」[別窓表示]

使用済モニター/ダミーウェハをお客様からお預かりして、膜除去、薄表研磨、仕上洗浄を行い、再使用出来る製品に仕上げてお客様に返却しております。

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• 株式会社新菱[別窓表示]

• ウェハや部材を選ばない融点60℃～300℃の多種多様な鉛フリーはんだめっきをご用意。
• L/S 10μm以下のきわめて微細なはんだバンプ加工に対応。
• 線材、コアボール、粉体など微小部品への均一な厚さの成膜が可能。

電子機器、半導体製品の試作、トライアルから量産まで強力にバックアップいたします。ウェハ1枚、部品1ロットから加工を承っております。
ウェハめっき、機能めっきの委託は、ぜひ新菱にお任せください。

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• 株式会社新菱 電子加工部サービスサイト[別窓表示]

精密洗浄・表面加工事業では、新菱の精密洗浄技術により、ミクロンからナノ単位の汚れを、表面からきめ細かく除去致します。　高度な精密洗浄技術、及び表面改質技術により、製品の歩留り向上、及びコスト削減に貢献します。

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ソルライト™は、リチウムイオン二次電池向けを主用途とし、リチウムイオン一次電池、アルミ電解コンデンサーなどにも使用される有機溶媒系電解液です。
機能性添加剤により、電池性能を大幅に向上させることが出来ます。

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• MUアイオニックソリューションズ株式会社[別窓表示]