情報・電子・ディスプレイ・電池材料
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高純度エチレンカーボネート
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高純度のエチレンカーボネートです。エチレンカーボネートは、高極性溶媒であり、電解質を大量に溶解できることから、リチウムイオン二次電池向け電解液の溶媒用途に主に使用されている他、高分子に対する溶解性が高い事から、剥離剤、洗浄剤としても使用されています。 当社製品は、低不純物、低水分と高い品質レベルにより、厳しい品質水準を要求される需要分野で高い評価を得ております。
CAS:No.96-49-1
EINECS:No.202-510-0
化審法:No.5－523
エチレンカーボネート
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エチレンカーボネートは、高極性溶媒であり、電解質を大量に溶解できることから、リチウムイオン二次電池向け電解液の溶媒用途に主に使用されている他、高分子に対する溶解性が高い事から、剥離剤、洗浄剤としても使用されています。 当社製品は、低不純物、低水分と高い品質レベルにより、厳しい品質水準を要求される需要分野で高い評価を得ております。
CAS:No.96-49-1
EINECS:No.202-510-0
化審法:No.5－523
2-ピロリドン 2P
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2P（2-ピロリドン）は優れた特性を持つ溶媒で、殆どの有機溶剤と完全に混合し、高沸点であることから、非常に広い範囲で使用されています。
- CAS:No.616-45-5（T）
- EINECS:No.210-483-1
- 化審法:No.5-112
- 安衛法:No.5-112
- 毒物劇物取締法:該当せず
- 消防法:危険物第4類第3石油類（水溶性液体）
紫外線硬化性樹脂
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アクリル系粘着剤 コーポニール™
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- ニーズに新たな価値を接合する、アクリル系粘着剤。
-
いま粘着剤の需要分野はますます広がり、多種多様な粘着特性が求められています。コーポニールは、酢酸エチル、トルエンなどを溶媒とするアクリル酸エステル主体の共重合樹脂です。
すでに、ラベル・シール、各種テープ、両面テープ、発泡体、保護フィルムなど幅広い用途に使用。お客様のあらゆるニーズに、期待以上の品質でお応えします。
UV硬化型ウレタンアクリレート 紫光™
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- 三菱ケミカルの紫外線硬化型樹脂、
紫光/SHIKOH。 -
紫外線をあてると瞬時に固まる性質をもつ、紫光/SHIKOH。熱硬化や常温硬化に比べて硬化時間が短く、有機溶剤を使用しない無溶剤や水系での設計が可能なため、低公害・省エネルギー・高生産性の樹脂として、大きな注目を集めています。さらにVOC(揮発性有機化合物)規制などの時代のニーズを追い風に、様々な分野での利用が拡大。高硬度タイプから弾性タイプまでの幅広い特性で、お客様の多彩なご要望にお応えしています。いま、社会や暮らしのいたるところで、紫光/SHIKOHの技術が輝きを放ちます。
- 未来とニーズを接着する。
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ニチゴーポリエスターは、ハイテク接着・塗料バインダー・樹脂改質分野を革新します
高度な高分子合成技術から生まれた、三菱ケミカルの高分子量飽和共重合ポリエステル樹脂〈ニチゴーポリエスター〉。PET、ポリカーボネート、塩ビなどの樹脂フィルムや成形物、アルミや銅などの金属に対して、優れた接着性能を発揮します。さらにイソシアネートやメラミン樹脂、エポキシ樹脂などの硬化剤との併用により、耐熱性・耐溶剤性・硬度をアップ。非結晶性溶剤可溶型、結晶性ホットメルト型、水分散型、特殊型など、お客様のニーズに最適なラインアップを揃えています。
トナー用ポリエステルレジン ダイヤクロン®
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プリンターの小型化、高速化に対応する材料として、注目されている材料です。カラートナーへの展開により、さらに市場を広げています。
感熱紙高耐熱性顕色剤 トミラックKN
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トミラックKNは、感熱紙用高耐熱性顕色剤です。
トミラックBSA（3,5-ジ-t-ブチルサリチル酸）は、トナー用荷電制御剤の原料です。
OPLフィルム
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OPLフィルムは液晶ディスプレイ用偏光板向けのPVOHフィルムです。
偏光板製造経験を活かした幅広い技術的知見と最適材料を提供します。
プラスチック・金属複合材 アルセット®
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金属とプラスチックフィルムを強力に接着した、深絞り成型可能な素材です。
熱可塑性高耐熱エンプラフィルム スペリオ®UT
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ポリエーテルイミド樹脂を当社独自の技術を用いて製膜した、耐熱性に優れたエンプラフィルムです。
電子機能材料
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電子機器部品向けに難燃性や絶縁性、機械特性に優れた各種製品をご提供します。
シリコーンゴムフィルム 珪樹®
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珪樹（けいじゅ）は、薄膜のシリコーンゴムフィルムです。一般タイプの他に導電タイプや放熱タイプ、難燃タイプがあります。
二軸延伸ポリエステルフィルム ダイアホイル®
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3つの基礎技術を融合して、
ポリエステルフィルムの新しい未来を切り拓いていきます
厚さ数ミクロンから350ミクロンまで各種のタイプを取り揃え、機械的特性・耐熱性などバランスのとれた特性を示すポリエステルフィルム、ダイアホイルは、世界中のお客様のさまざまな製品に使用され、その用途は日々広がっています。
私たちは、優れた独自の原料技術、長年にわたり培ったフィルム製膜技術、独自のコーティングによる表面処理技術、この3つの技術を融合させて、お客様と共に新たな市場を開拓し、世界のリーディングカンパニーを目指します。
高品質な製品を提供するため、不断の努力・研鑽を重ねていきます
ポリエステルフィルム事業では、ポリマー事業と一体となり、最新の情報と技術を取り入れ、品質の向上、プロセスの改良を行って、お客さまの多様なニーズにお応えしています。
これにより、お客様にご満足を提供し、永く強固な関係を築く努力を続けています。今後も、高品質な製品を提供するための不断の努力・研鑽を重ねていきます。
射出成形品
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高機能モ－ルディングシステムズ事業は、滋賀県長浜市・岐阜県大垣市に生産拠点を有し、射出成形をベースに事業展開しています。自動車分野を中心に様々な分野で、常にお客様のニーズを先取りしながら、金型製作から製品の納入まで一貫した生産フローのもと、高品質な製品を提供致します。各種射出成形技術だけでなく、様々な塗装技術を有し、内製体制を構築しています。
電子線リソグラフィー用帯電防止剤 アクアセーブ™
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電子線リソグラフィーにおいてレジスト表面に発生する電子の蓄積を防止するための帯電防止剤です。
先端フォトマスク製造などに適用することでチャージアップによる障害の改善が期待されます。
帯電防止剤・水溶性導電性ポリマー アクアパス™
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フォトレジスト用感光性ポリマー リソマックス™
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半導体回路形成時に使用されるフォトレジスト用感光性ポリマー。
回路パターン寸法の微細化に伴う高度な品質要求（高純度化、低メタル化）に対応。
ポリマーのデザインから試作、量産まで承ります。
合成石英粉 MKC™シリカ
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シリコンアルコキシドを原料とした、超高純度の合成石英粉。高純度を要求される石英ガラス（シリカガラス）の原料として最適です。
- CASNo.：
- 60676-86-0
- EINECS：
- 262-373-8
- 化審法：
- 1-548
- 安衛法：
- 1-548
Siエッチ シリーズは、スピンエッチング装置用のシリコンウェハエッチング液で、ウェハ裏面の加工変質層を除去します。
半導体製造時のウェットエッチングで使用されるEL薬品です。次のエッチング液を取り扱っています。
Al エッチング液、Si エッチング液
半導体製造工程におけるシリコンウエハの洗浄においては、近年の半導体回線幅の微細化にあわせ、高度なパーティクル・メタルの除去が求められています。三菱ケミカルの電子工業用高純度プロセス薬品はそれらの要求に応え、10ppt以下のメタル不純物レベルの高純度性を備えています。
取扱品目：EL塩酸、EL硝酸、EL安水
高機能洗浄剤 AM1
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AM1は高いパーティクル除去性とメタル除去性を併せ持つ高機能洗浄剤で、EL薬品の一種です。バッチ・枚葉洗浄共に適用可能な高性能RCA代替洗浄剤です。さらに、シリコンを腐食しないため、メタルゲート用洗浄剤としても優れた性能を持っています。
- 枚葉洗浄剤（高清浄な表面を短時間で実現）
- メタルゲート用洗浄剤（タングステン・シリコンの腐食防止）
高機能洗浄剤 MC1
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MC1は電子工業用の高機能洗浄剤で、EL薬品の一種です。高性能なRCA代替洗浄剤です。パーティクルとメタルの除去性を併せ持つことにより、RCA洗浄の工程数を減少させ、お客様のトータルコスト低減に貢献いたします。
- 金属汚染の低減
- クロスコンタミ防止
CMP後洗浄剤
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酸性タイプ Cu CMP後洗浄剤 / アルカリ性タイプ Cu CMP後洗浄剤
半導体の製造工程のひとつである、Cu/Low-K膜のCMPの後洗浄工程においては、基板への腐食やダメージを与えずに、Cu配線上・Low-k膜上に残留するスラリー由来の有機残渣やパーティクルを除去する技術が求められています。三菱ケミカルのMXC-SDR4はそれら要求に応え、高い洗浄効果を実現する電子工業用高機能洗浄剤です。
- 高いパーティクル除去性
- 有機残渣の効果的除去
- Cu配線ガルバニック腐食低減
- Low-kダメージ低減
- Low-k面濡れ性向上
窒化ガリウム基板
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窒化ガリウム（ガリウムナイトライド (Gallium Nitride) ，GaN）とはガリウムの窒化物で、化合物半導体の一種でワイドギャップ半導体に属します。
CAS No.25617-97-4
EINECS Number 247-129-0
三菱ケミカル製の窒化ガリウム（GaN）基板は、自社で永年培ってきたHVPEと呼ばれるエピタキシャル技術と化合物半導体の加工技術を用いた、高品質な単結晶基板です。 均一かつ高品位な結晶性と表面品質が特長です。高輝度LED用基板や、プロジェクター光源や高輝度ヘッドライトに使用される青色レーザーダイオード（LD）用基板として、幅広い用途で使用されています。 またパワーデバイスや高周波デバイスなどの電子デバイス用基板としての用途も開発を進めています。また、より高品質・高生産性を実現すべく、当社独自の液相成長法（ SuperCritical Acidic Ammonia Technology）により製造される窒化ガリウム基板SCAAT ™ の開発を進めています。
光学用反射シート ルミレックス®II
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高い反射性能を有するポリオレフィン系白色反射シートです。液晶バックライトの反射シートに使用することによって輝度向上に貢献しています。
光学用透明粘着シート クリアフィット®
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タッチパネルなどの各種ディスプレイの層間を充填する透明粘着シートです。ディスプレイ内の空隙に充填することで二重写りを防止し、コントラストも向上することから、視認性が改善されます。
トナー
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トナーは、プリンターや複写機で画像を印刷するための基幹部材です。
OPCドラム
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OPC（有機感光体）ドラムは、プリンターや複写機で画像を印刷するための基幹部材です。
X線シンチレータスクリーン DRZ®
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シンチレータはX線などの放射線を可視光に変換する材料で、TFTやCCD、CMOSセンサーなどの光検出器と組み合わせることで、測定物の画像を効率的にデジタルイメージに変換することができます。 三菱ケミカルのシンチレータは独自の蛍光体製造技術及び加工ノウハウにより医療用X線画像診断装置や手荷物検査装置などに使用されるDRZシリーズをはじめ、異物検査用などの高速ラインセンサーに使用されるShort Decay and Low Afterglow Type(短残光）など、優れたデジタルX線撮影装置用シンチレータを製品化しています。
光デバイス用蛍光体
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蛍光体とは、紫外線や可視光など、外部からの光エネルギーを吸収し、光に変換する材料です。
三菱ケミカルでは、半世紀以上にわたる蛍光体開発・製造経験を持ち、その過程で培った卓越した蛍光体製造技術により、光デバイス（LED・レーザー等）用蛍光体を提供しております。
三菱ケミカルのリチウムイオン二次電池用負極材には、天然黒鉛系のMPGと人造黒鉛系のICGがあります。MPGは急速充放電に優れた特性を有します。ICGは高容量で優れた寿命特性を有しております。
プラスチック光ファイバー エスカ®
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アクリル樹脂の光透過性を活かした高性能プラスチック光ファイバー。軽量かつ柔軟で、加工性に優れるなど、石英系光ファイバーには無い大きな特長があります。車載ネットワーク、照明、センサー、FA（Factory Automation）、情報通信等の分野へも展開を進めています。
ロッドレンズアレイ ロッドスコープ®
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ロッドスコープは、ロッドレンズを基板上に規則的に配列させたもの（アレイ）で、小型化・軽量化が実現可能なCIS（Contact Image Scanner）方式の画像読取り用キーデバイスとして、複合プリンター、ファクシミリ、各種スキャナーなどに幅広く使用されています。
感熱紙画像安定剤 トミラック214
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トミラック214は、感熱紙用画像安定剤です。
- CASNo.：
- 23117-36-4
- TSCA：
- 収載
- 化審法：
- (3)-4442
塗料・被覆材料の低温硬化性、柔軟性、架橋性、耐擦傷性や耐酸性雨性を向上させる高架橋性アクリレート
- CASNo.：
- 119692-59-0
- TSCA：
- 収載
- 化審法：
- (5)-6751
ウエハ再生事業 ウェハ再生受託
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使用済モニター/ダミーウェハをお客様からお預かりして、膜除去、薄表研磨、仕上洗浄を行い、再使用出来る製品に仕上げてお客様に返却しております。
電子加工品事業 ３元めっき（機能めっき）
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電子加工品事業では、最先端のファインピッチバンプめっき技術、三元他各種めっき技術を有しており、機能めっき加工を受託しています。 リードフレームの外装めっきで蓄積された技術力、開発力で、半導体パッケージの微細化、狭ピッチ化、精密化、高機能化 に対応致します。
精密洗浄・表面加工事業 精密洗浄・表面加工受託
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精密洗浄・表面加工事業では、新菱の精密洗浄技術により、ミクロンからナノ単位の汚れを、表面からきめ細かく除去致します。 高度な精密洗浄技術、及び表面改質技術により、製品の歩留り向上、及びコスト削減に貢献します。
ソルライト®は、リチウムイオン二次電池向けを主用途とし、リチウムイオン一次電池、アルミ電解コンデンサーなどにも使用される有機溶媒系電解液です。
機能性添加剤により、電池性能を大幅に向上させることが出来ます。