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- 三菱ケミカル株式会社
- 半導体マテリアルズ事業部
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高機能薬液グループ
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半導体の製造工程のひとつである、Cu/Low-k膜のCMPの後洗浄工程においては、基板への腐食やダメージを与えずに、Cu配線上・Low-k膜上に残留するスラリー由来の有機残渣やパーティクルを除去する技術が求められています。三菱ケミカルのMCX-SDR4はそれら要求に応え、高い洗浄効果を実現する電子工業用高機能洗浄剤です。
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Cu/Low-k膜のCMPによる平坦化後は各種無機・有機物質により汚染されており、CMP後洗浄による高清浄化実現のためには
の6つの機能が求められます。
MCX-SDR4はそれらの機能を満たし、高い洗浄効果を実現する電子工業用高純度薬品で、高機能洗浄剤として使用されます。
これらにより、パターン形成されたCu配線や疎水面であるLow-k表面において、極めて高い洗浄性能を実現しています。
三菱ケミカルは、これまで培った洗浄剤の技術を活かし、今後も進む半導体回線幅の微細化に対応する高機能洗浄剤の開発も行っております。
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Cu配線のCMP工程における、スラリー研磨後の洗浄用途
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