半導体製造工程におけるシリコンウエハの洗浄においては、近年の半導体回線幅の微細化にあわせ、高度なパーティクル・メタルの除去が求められています。三菱ケミカルのスターシリーズはそれらの要求に応え、10ppt以下のメタル不純物レベルの高純度性を備えた電子工業用プロセス薬品です。
取扱品目:硝酸、塩酸、アンモニア水

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特徴

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半導体製造プロセスにおけるシリコンウエハは、各種無機・有機物質により汚染されており、高清浄化実現のためには

  1. 1.パーティクル除去
  2. 2.有機残渣除去
  3. 3.メタル除去

の3つの機能が求められます。
スターシリーズはそれらの機能を満たし、高い洗浄効果を実現する電子工業用高純度プロセス薬品です。

ラインナップ

  • 塩酸
  • 硝酸
  • アンモニア水

スターシリーズの4つの特長

  1. 1.30年来にも及ぶ長年の製造・販売実績
  2. 2.大手半導体各社との取引を通じた品質の向上
  3. 3.半導体回線幅の微細化にあわせた高純度化
  4. 4.総合化学メーカーならではの高度な分析・品質管理技術を用いた万全の品質管理体制

これらにより、スターシリーズは10ppt以下のメタル不純物レベルの高純度性を実現しています。
三菱ケミカルは、これらの経験を活かし、今後も進む半導体回線幅の微細化に対応する薬品の高純度化を進めております。

用途

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半導体製造工程における、シリコンウエハの洗浄

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  • TEL:03-6748-7142

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