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高放熱絶縁樹脂シートイメージ

インバーターなどに搭載されるパワーモジュールに好適な、高い放熱性と高い絶縁性を両立した樹脂シートです。独自開発のカードハウス状BN(窒化ホウ素)フィラーを配合した高純度樹脂シートで、高放熱用途で広く用いられている窒化ケイ素基板と同等の絶縁性と放熱性を達成(弊社調べ)致しました。

窒化ガリウム基板

三菱ケミカル製の窒化ガリウム(GaN)基板は、自社で永年培ってきたHVPEと呼ばれるエピタキシャル技術と化合物半導体の加工技術を用いた、高品質な単結晶基板です。 均一かつ高品位な結晶性と表面品質が特長です。プロジェクター光源や高輝度ヘッドライトに使用される青色及び緑色レーザーダイオード(LD)用基板として使用されています。
また、より低欠陥・高生産性を実現すべく、アンモニアの超臨界状態を活用したSCAAT™ (*)及びSCAAT™-LP(**)の開発を行い、パワーデバイスや高周波デバイスなどのパワーエレクトロニクス用基板として、幅広い用途展開を進めていきます。

  • *SCAAT™は、三菱ケミカル株式会社が実施する酸性アモノサーマル技術のブランドネームです。 この技術は、国立大学法人東北大学、株式会社日本製鋼所及び当社の協力により確立したものです。
  • **SCAAT™ -LPは、三菱ケミカル株式会社及び株式会社日本製鋼所が実施する低圧酸性アモノサーマル技術のブランドネームです。 この技術は、国立大学法人東北大学、株式会社日本製鋼所、三菱ケミカル株式会社の3者で共同開発したものです。

NEWS LETTER   未来社会を支える素材「GaN(窒化ガリウム)」[PDF]859KB)

改訂履歴(2022年6月10日実施)

  • 改定内容
    • “三菱ケミカル独自の液相成長技術(Super Critical Acidic Ammonia Technology, 以下「SCAAT™」)” という文言を削除
  • 改定の趣旨
    • 国立大学法人東北大学多元物質科学研究所(以下、東北大学)から、当社が実施する酸性アモノサーマル技術(SCAAT™)は、当社独自の技術ではなく、東北大学および株式会社日本製鋼所の協力のもとに確立した技術であるとの指摘がありました。当社は東北大学の指摘を真摯に受け止め、関連する記事の一部を訂正いたしました。
      詳細はこちらをご確認ください。[PDF]130KB)

マイクロバブル(直径:約1~100μmの微細気泡)を利用したバイオリアクターシステム(SIP/CIP対応)では、溶存酸素を枯渇することなく、培養を行うことができます。従来よりもせん断力による微生物のダメージを抑制でき、収量アップによる生産性の向上およびメンテンナンス性向上を実現し、作業の負荷も軽減しています。

TAC、PI、PP、PVC、PC、PVA等、溶解流延法で生産されるフィルムの成膜装置で、超鏡面スチールベルトの採用により光学用途の高品質なフィルム生産に対応します。

通常の商用電源を利用した電磁誘導により、槽・パイプ等に直接2次電流を流すことで缶体を発熱させ(ジュール熱)、内部流体を加熱する装置です。反応槽型・多管型・蛇管型の3タイプがあり、お客さまの多様な温加熱のニーズにお応えします。

省スペース・省エネルギー・自動制御運転による省人化を考慮した設計により、イニシャルコストとメンテンナンスコストを最小限に抑えたシステムを提案します。新規設備のみならず、既存設備の改善も可能です。

化学と電子産業で培い蓄積した幅広い技術で原料製造・薬液製造や薬液の供給・回収、リサイクル、リユースなどの最適なソリューションをご提案します。また、回収や精製再利用、運転の省エネルギー化などの技術で、お客さまのESGやSDGs、カーボンニュートラルへの取り組みにも貢献します。

製品詳細は三菱ケミカルインフラテック社のサイトでご確認ください。

製品詳細は三菱ケミカルインフラテック社のサイトでご確認ください。