この度、三菱ケミカル(MCC)の半導体向け商品・サービスに対して、新たなブランドを設立しました。
全世界に広がるMCCグループ内を横断した”協奏”効果により、半導体産業へ化学の力を駆使した解決案をワンストップで提供致します。

• 高機能洗浄剤　「CMP後洗浄剤」
  半導体の製造工程における、種々のCMPプロセスの後洗浄剤を提案します。基板への腐食やダメージを与えずに、Cu等の金属配線上・Low-k膜上に残留するスラリー由来の有機残渣やパーティクルを除去する技術が求められています。ラインアップしているMCX-SDR4はそれら要求に応え、高い洗浄効果を実現する商品です。
• 電子工業用高純度プロセス薬品「スターシリーズ」
  半導体製造工程におけるシリコンウエハの洗浄においては、近年の半導体回線幅の微細化にあわせ、高度なパーティクル・メタルの除去が求められています。スターシリーズはそれらの要求に応え、10ppt以下のメタル不純物レベルの高純度性を備えた電子工業用プロセス薬品です。
• 高機能洗浄剤「AM1」
  AM1は半導体の洗浄工程において、高いパーティクル除去性とメタル除去性を併せ持つ高機能洗浄剤です。バッチ型洗浄に加え、枚葉型洗浄にも適用でき、短時間で高清浄化を実現します。また、シリコンを腐食しないため、メタルゲート用洗浄剤としても優れた性能を持っています。
• 高機能洗浄剤「MC1」
  MC1は半導体製造時の洗浄工程において、高いパーティクル除去性とメタル除去性を併せ持つ高機能洗浄剤です。 RCA洗浄の工程数を減少させ、お客様のトータルコスト低減に貢献いたします。
• フォトレジスト用感光性ポリマー「リソマックス」
  半導体回路形成時に使用されるフォトレジスト用感光性ポリマーです。回路パターン寸法の微細化に伴う高度な品質要求に対応可能です。
• 合成石英粉「三菱合成石英」
  シリコンアルコキシドを原料とした、超高純度の合成石英粉。高純度を要求される石英ガラス（シリカガラス）の原料として最適です。
• 帯電防止剤「アクアパス」
  自己ドープ型の水溶性導電性ポリマーで薄膜でも高い導電性発現可能なため、帯電防止性コーティング材料や界面活性剤として利用されています。また、高い透明性を有し、湿度依存性が少ない性能を持っています。
• 電子線リソグラフィー用帯電防止剤「アクアセーブ」」
  電子線リソグラフィーにおいてレジスト表面に発生する電子の蓄積を防止するための帯電防止剤です。先端フォトマスク製造などに適用することでチャージアップによる障害の改善が期待されます。
• 電子工業用高性能エッチング液
  半導体製造時のウェットエッチング工程で使用される高純度エッチング液です。 （取り扱い品目：Si エッチング液、Al エッチング液、Ag エッチング液
• 精密洗浄・表面加工
  精密洗浄・表面加工事業では、新菱の精密洗浄技術により、ミクロンからナノ単位の汚れを、表面からきめ細かく除去致します。　高度な精密洗浄技術、及び表面改質技術により、製品の歩留り向上、及びコスト削減に貢献します。
  • Cleanpart 新菱
• 電子加工品（機能めっき）
  電子加工品事業では、最先端のファインピッチバンプめっき技術、三元他各種めっき技術を有しており、機能めっき加工を受託しています。リードフレームの外装めっきで蓄積された技術力、開発力で、半導体パッケージの微細化、狭ピッチ化、精密化、高機能化　に対応致します。
  • 新菱
• ウエハ再生
  使用済モニター/ダミーウェハをお客様からお預かりして、膜除去、薄表研磨、仕上洗浄を行い、再使用出来る製品に仕上げてお客様に返却しております。
  • 新菱