半导体材料Unit负责生产和销售关于半导体、液晶显示屏、太阳能电池电子零部生产工序中所需要的各种化学品。凭借三菱化学的研发能力,进一步提高化学品纯度,不断开发新的化学品,以满足微细化进程不断发展的半导体制造工艺和电子零部件制造工艺的要求。

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aquaSAVE是用于电子束光刻工艺中的抗静电剂,能有效防止光刻胶表面的静电积聚。应用于尖端光掩模制造领域,有望改善因静电积累所带来的结构损伤问题。

aquaPASS是一种水性抗静电剂,其主要成分是聚苯胺类的水溶性导电聚合物,具有膜厚易控制,导电性良好,透明性极佳,受环境湿度影响小的特点。
通过涂布在薄膜或塑料基材上,可防止因静电引起的异物附着。

半导体电路形成时使用的光致抗蚀剂用感光性聚合物。
伴随电路图案尺寸的微细化,对应更加严格的质量要求(高纯度化、低金属化)。
承接范围涵盖从聚合物的设计到试制、量产。

Si蚀刻系列是用于旋转蚀刻装置的硅晶片蚀刻液,清除晶片背面的加工损坏层

在半导体生产中有一道工序是Cu/Low-k膜CMP后进行清洗。技术被要求在基板不造成腐蚀、损坏的基础,再加上可去除Cu配线及Low-k膜上残留的研磨液有机残渣或粒子。三菱化学生产的MXC-SDR4便是为满足这些要求,可达到高清洗效果的电子工业用洗涤剂。 优点: ・粒子去除性强 ・有效去除有机残渣 ・降低Cu配线的电偶腐蚀 ・降低Low-k损伤 ・提高Low-k表面润湿性

在半导体生产中的硅晶片洗涤工序,应对半导体线路微细化进程的不断发展,对粒子、金属污染的除去要求极高。三菱化学生产的Star Series便是可满足这些要求,金属杂质在10ppt以下的高纯度电子工业用工序药品。
经营品种有:硝酸、盐酸、氨水

MC1是EL化学品的一种,是RCA替代型高性能清洗剂。由于它同时具备粒子和金属清除性,因此可减少RCA清洗工序,为客户降低总成本做出贡献。

  • 减少金属污染
  • 防止交叉污染

AM1是一种同时具备高度微粒清除性和金属清除性的EL化学品,是既可适用于批量清洗又可适用于单片清洗的RCA替代型高性能清洗剂。并且对硅无腐蚀作用,因此作为金属栅用清洗剂也同样具有出色性能。

  • 单片清洗剂(短时间内即可实现表面高度洁净)
  • 金属栅用清洗剂(防止对钨・硅造成腐蚀)

是半导体制造时在湿法蚀刻工程中所使用的EL化学品。我们经营下述蚀刻液。
Si蚀刻液、Al蚀刻液