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碳酸乙烯酯

碳酸乙烯酯是一种高极性的溶剂。因其可溶解大量的电解质,所以主要用于锂二次电池电解液溶剂,此外,其对高分子也有很强的溶解性,故可作为剥离剂、洗净剂使用。本公司产品杂质含量低、含水量低、品质高,在对质量标准有严格要求的领域赢得了较高声誉。
CAS:No.96-49-1
EINECS:No.202-510-0
化学物质控制法:No.5-523

碳酸乙烯酯

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碳酸乙烯酯

碳酸乙烯酯是一种高极性的溶剂。因其可溶解大量的电解质,所以主要用于锂二次电池电解液溶剂,此外,其对高分子也有很强的溶解性,故可作为剥离剂、洗净剂使用。本公司产品杂质含量低、含水量低、品质高,在对质量标准有严格要求的领域赢得了较高声誉。
CAS:No.96-49-1
EINECS:No.202-510-0
化学物质控制法:No.5-523

2P

2P(2-吡咯烷酮)是一种性能优越的溶剂,能与绝大多数有机溶剂完全混溶,因其沸点高,应用范围非常广泛。

  • CAS:No.616-45-5(T)
  • EINECS:No.210-483-1
  • 化学物质审查管制法:No.5-112
  • 安全卫生法:No.5-112
  • 有毒有害物质管制法:不适用
  • 消防法:危险品第4类第3石油类(水溶性液体)

ROD SCOPE是在基板上有规则地排列棒状透镜(阵列),可实现小型轻量化,以CIS(Contact Image Scanner)方式读取图像的关键元器件,广泛用于复合打印机、传真机及各种扫描仪。

高性能塑料光纤充分利用了丙烯酸树脂的光透性,具有轻量且柔软,优秀的加工性等,石英类光纤所不具备的优良特质。正在向车载网络、照明、传感器、FA(Factory Automation)、信息通信等领域拓展。

满足需求创造新价值的丙烯酸型粘合剂

如今对于胶粘剂的需求不断扩大,特性要求也不断增加。COPONYL产品是以醋酸乙酯,甲苯等溶剂为介质的丙烯酸酯主体的共聚树脂。已经在标签,各种胶带,双面胶,泡棉胶,保护薄用途上被广泛使用。以出色的品质满足各种客户的不同需求。

将您的需求与未来接着

NICHIGO-POLYESTER在高技术接着,涂料助剂,树脂改性用途

高分子量饱和共聚聚酯树脂(NICHIGO-POLYESTER)是从高度高分子合成技术诞生的,在对PET,PC,PVC等材质的薄膜,成形物,和铝,铜等金属有优异的接着性能。同时通过和异氰酸酯和三聚氰胺,环氧等交联剂的添加使用,能加强其耐热性,耐溶剂性,硬度等特性。拥有非结晶溶剂可溶牌号,结晶热熔牌号,水溶牌号,特殊牌号等丰富的产品线。

三菱化学的紫外线固化型树脂、 SHIKOH。

紫光拥有受到紫外线照射的瞬间就会固化的特性,是跨时代的紫外线固化型树脂。与热固化和常温固化相比,紫光的固化时间短,因为适用于无有机溶剂的无溶剂和水性的设计,所以被认为是低公害,节能,高生产性的树脂而备受瞩目。

Diacron成为备受瞩目的材料,因其有助于实现打印机的机体小型化和高速打印。在彩色墨粉领域的应用,为其开拓了更为广阔的市场。

aquaSAVE是用于电子束光刻工艺中的抗静电剂,能有效防止光刻胶表面的静电积聚。应用于尖端光掩模制造领域,有望改善因静电积累所带来的结构损伤问题。

半导体电路形成时使用的光致抗蚀剂用感光性聚合物。
伴随电路图案尺寸的微细化,对应更加严格的质量要求(高纯度化、低金属化)。
承接范围涵盖从聚合物的设计到试制、量产。

aquaPASS是一种水性抗静电剂,其主要成分是聚苯胺类的水溶性导电聚合物,具有膜厚易控制,导电性良好,透明性极佳,受环境湿度影响小的特点。
通过涂布在薄膜或塑料基材上,可防止因静电引起的异物附着。

Tomilac KN是热敏纸用高耐热性显色剂。

Tomilac 224是热敏纸用高耐水性显色剂。

Tomilac 214是热敏纸用图像稳定剂。

Tomilac BSA(3,5-二叔丁基水杨酸)是墨粉用电荷控制剂的原料。

融合三种基础技术,
开拓聚酯薄膜的崭新未来。

我们经营的聚酯薄膜DIAFOIL,厚度从几微米至350微米的各种类型的产品,该材料并具机械性能及耐热性等特点,被世界各国的客户用于生产制造各类产品,其用途正在不断日益扩大。

我们将三菱化学公司卓越的独创原料技术、多年积累的薄膜制膜技术和独特的表面镀膜处理技术融合在一起,与客户共同开拓新市场,力争成为领先于世界的龙头企业。

为提供高品质的产品,坚持不懈地奋发努力和精心钻研

三菱化学公司的聚酯薄膜业务与三菱化学公司的聚合物技术紧密结合,通过采用最新信息和技术,提高品质,改善生产流程,以满足客户多样化的需求。
以此提供让客户满意的服务,并不断努力构筑与客户永久稳固的关系。今后为了提供高品质的产品,我们将继续坚持不懈地奋发努力和精心钻研。

拥有强大反射性能的聚烯烃类反射片。用于液晶背光灯的反射片,有助于提高亮度。

填充触摸屏等各种显示器层间的透明粘合片。填充到显示器内的空隙以防止重影,也提高对比度,改善可视性。

OPL薄膜是用于液晶屏幕的偏光板PVOH薄膜。
利用偏光板的制造经验,为客户提供广泛的技术见解和最适合的材料。

墨粉

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墨粉

墨粉是用于图像印刷的打印机及复印机的基础部材

感光鼓

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感光鼓

感光鼓(有机感光体)是用于图像印刷的打印机及复印机的核心部件。

Si蚀刻系列是用于旋转蚀刻装置的硅晶片蚀刻液,清除晶片背面的加工损坏层

在半导体生产中有一道工序是Cu/Low-k膜CMP后进行清洗。技术被要求在基板不造成腐蚀、损坏的基础,再加上可去除Cu配线及Low-k膜上残留的研磨液有机残渣或粒子。三菱化学生产的MXC-SDR4便是为满足这些要求,可达到高清洗效果的电子工业用洗涤剂。 优点: ・粒子去除性强 ・有效去除有机残渣 ・降低Cu配线的电偶腐蚀 ・降低Low-k损伤 ・提高Low-k表面润湿性

在半导体生产中的硅晶片洗涤工序,应对半导体线路微细化进程的不断发展,对粒子、金属污染的除去要求极高。三菱化学生产的Star Series便是可满足这些要求,金属杂质在10ppt以下的高纯度电子工业用工序药品。
经营品种有:硝酸、盐酸、氨水

MC1是EL化学品的一种,是RCA替代型高性能清洗剂。由于它同时具备粒子和金属清除性,因此可减少RCA清洗工序,为客户降低总成本做出贡献。

  • 减少金属污染
  • 防止交叉污染

AM1是一种同时具备高度微粒清除性和金属清除性的EL化学品,是既可适用于批量清洗又可适用于单片清洗的RCA替代型高性能清洗剂。并且对硅无腐蚀作用,因此作为金属栅用清洗剂也同样具有出色性能。

  • 单片清洗剂(短时间内即可实现表面高度洁净)
  • 金属栅用清洗剂(防止对钨・硅造成腐蚀)

是半导体制造时在湿法蚀刻工程中所使用的EL化学品。我们经营下述蚀刻液。
Si蚀刻液、Al蚀刻液、Au蚀刻液、Ag蚀刻液

该材料由金属与塑料薄膜强力粘合而成,可进行深冲压加工。

使用本公司独特的技术将聚醚酰亚胺树脂制作成膜,是一款超耐热工程塑料薄膜。

提供用于电子设备及零件的阻燃性、绝缘性、机械性能优异的各种产品。

硅树为硅橡胶薄膜。除常规型以外,还有导电型、散热型和阻燃型。

高性能成型系统事业是以注塑成型为基础、升级换代的一项新业务,在滋贺县长滨市及岐阜县大垣市拥有生产基地。目前主要运用在汽车及相关领域,特点在于,不仅能明锐洞察客户潜在的需求,还通过严格把控从制作模具到交付产品的整个生产流程,为客户提供高品质的产品。该业务涵盖了各种注塑成型、涂装技术,及建立一站制作体系等方面的内容。

Sol-Rite®

Sol-Rite®是一种有机溶剂型电解液。主要用于锂离子二次电池,同时也可用于锂离子一次电池和铝电解电容等。由于使用功能性添加剂,能大幅提高电池性能。 注:Sol-Rite®是三菱化学株式会社的注册商标。

MPG(天然石墨材料) / ICG(人造石墨材料)

三菱化学生产的锂离子二次电池用负极材料有天然石墨材料的MPG和人造石墨材料的ICG两种。MPG快速充放电性能优异。ICG容量高,长寿命

氮化镓基板

氮化镓(Gallium Nitride,GaN)是镓的氮化物,是化合物半导体的一种,属于宽禁带半导体。
CAS No.25617-97-4,
EINECS Number 247-129-0
三菱化学制造的氮化镓(GaN)基板是利用公司多年研发的氢化物气相外延技术(HVPE)和化合物半导体加工技术生产出的高品质单晶基板。 其特点是具有均一且高品位的结晶性与表面质量。
广泛用作各种LED(白光LED、紫外光LED、紫光LED、蓝光LED)的基板、蓝光光头用的蓝紫光LD(激光二极管)以及微型投影仪用的绿色LD基板等。 此外,正在研究开发用于功率元器件及高频元器件等电子元器件的基板。目前还着手开发可实现高品质、高生产效率的氨热生长法。该方法是基于液相生长方式的氮化镓基板制造方法。