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高纯度碳酸乙烯酯
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碳酸乙烯酯
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丙烯酸型溶剂型粘合剂 COPONYL™
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打印机墨粉用聚酯树脂 Diacron
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Diacron成为备受瞩目的材料,因其有助于实现打印机的机体小型化和高速打印。在彩色墨粉领域的应用,为其开拓了更为广阔的市场。
Tomilac KN是热敏纸用高耐热性显色剂。
塑料光纤 Eska™
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棒状透镜阵列 Rodscope™
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电子束光刻用抗静电剂 aquaSAVE™
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aquaSAVE是用于电子束光刻工艺中的抗静电剂,能有效防止光刻胶表面的静电积聚。应用于世界先进的光掩模制造领域,有望改善因静电积累所带来的结构损伤问题。
抗静电剂 aquaPASS™
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aquaPASS是一种水性抗静电剂,其主要成分是聚苯胺类的水溶性导电聚合物,具有膜厚易控制,导电性良好,透明性极佳,受环境湿度影响小的特点。
通过涂布在薄膜或塑料基材上,可防止因静电引起的异物附着。
半导体电路形成时使用的光致抗蚀剂用感光性聚合物。
伴随电路图案尺寸的微细化,对应更加严格的质量要求(高纯度化、低金属化)。
承接范围涵盖从聚合物的设计到试制、量产。
旋转蚀刻装置的硅晶片蚀刻液 Si蚀刻系列
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Si蚀刻系列是用于旋转蚀刻装置的硅晶片蚀刻液,清除晶片背面的加工损坏层
在半导体生产中有一道工序是Cu/Low-k膜CMP后进行清洗。技术被要求在基板不造成腐蚀、损坏的基础,再加上可去除Cu配线及Low-k膜上残留的研磨液有机残渣或粒子。三菱化学生产的MCX-SDR4便是为满足这些要求,可达到高清洗效果的电子工业用洗涤剂。
优点:
- 粒子去除性强
- 有效去除有机残渣
- 降低Cu配线的电偶腐蚀
- 降低Low-k损伤
- 提高Low-k表面润湿性
在半导体生产中的硅晶片洗涤工序,应对半导体线路微细化进程的不断发展,对粒子、金属污染的除去要求极高。三菱化学生产的Star Series便是可满足这些要求,金属杂质在10ppt以下的高纯度电子工业用工序药品。
经营品种有:硝酸、盐酸、氨水
高性能清洗剂 高性能清洗剂 MC1
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高性能清洗剂 高性能清洗剂 AM1
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AM1是一种同时具备高度微粒清除性和金属清除性的EL化学品,是既可适用于批量清洗又可适用于单片清洗的RCA替代型高性能清洗剂。并且对硅无腐蚀作用,因此作为金属栅用清洗剂也同样具有出色性能。
- 单片清洗剂(短时间内即可实现表面高度洁净)
- 金属栅用清洗剂(防止对钨・硅造成腐蚀)
电子工业用高性能蚀刻液
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是半导体制造时在湿法蚀刻工程中所使用的EL化学品。我们经营下述蚀刻液。
Si蚀刻液、Al蚀刻液
偏光板PVOH薄膜 OPL™薄膜
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OPL™薄膜是用于液晶屏幕的偏光板PVOH薄膜。
利用偏光板的制造经验,为客户提供广泛的技术见解和适合的材料。
光学反射片 Lumirex™II
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光学透明胶膜 CLEARFIT™
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树脂薄膜/金属层压板 ALSET®
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电子功能材料
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硅橡胶薄膜 硅树™
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X射线闪烁屏 DRZ™
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墨粉
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感光鼓
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双向拉伸聚酯薄膜 DIAFOIL™
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融合三种基础技术,
开拓聚酯薄膜的崭新未来。
我们经营的聚酯薄膜DIAFOIL,厚度从几微米至350微米的各种类型的产品,该材料并具机械性能及耐热性等特点,被世界各国的客户用于生产制造各类产品,其用途正在不断日益扩大。
我们将三菱化学公司卓越的独创原料技术、多年积累的薄膜制膜技术和独特的表面镀膜处理技术融合在一起,与客户共同开拓新市场,力争成为领先于世界的龙头企业。
为提供高品质的产品,坚持不懈地奋发努力和精心钻研
三菱化学公司的聚酯薄膜业务与三菱化学公司的聚合物技术紧密结合,通过采用最新信息和技术,提高品质,改善生产流程,以满足客户多样化的需求。
以此提供让客户满意的服务,并不断努力构筑与客户永久稳固的关系。今后为了提供高品质的产品,我们将继续坚持不懈地奋发努力和精心钻研。
射出成型品
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