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aquaSAVE是用于电子束光刻工艺中的抗静电剂,能有效防止光刻胶表面的静电积聚。应用于世界先进的光掩模制造领域,有望改善因静电积累所带来的结构损伤问题。

aquaPASS是一种水性抗静电剂,其主要成分是聚苯胺类的水溶性导电聚合物,具有膜厚易控制,导电性良好,透明性极佳,受环境湿度影响小的特点。
通过涂布在薄膜或塑料基材上,可防止因静电引起的异物附着。

半导体电路形成时使用的光致抗蚀剂用感光性聚合物。
伴随电路图案尺寸的微细化,对应更加严格的质量要求(高纯度化、低金属化)。
承接范围涵盖从聚合物的设计到试制、量产。

在半导体生产中有一道工序是Cu/Low-k膜CMP后进行清洗。技术被要求在基板不造成腐蚀、损坏的基础,再加上可去除Cu配线及Low-k膜上残留的研磨液有机残渣或粒子。三菱化学生产的MCX-SDR4便是为满足这些要求,可达到高清洗效果的电子工业用洗涤剂。


优点:
  • 粒子去除性强
  • 有效去除有机残渣
  • 降低Cu配线的电偶腐蚀
  • 降低Low-k损伤
  • 提高Low-k表面润湿性

在半导体生产中的硅晶片洗涤工序,应对半导体线路微细化进程的不断发展,对粒子、金属污染的除去要求极高。三菱化学生产的Star Series便是可满足这些要求,金属杂质在10ppt以下的高纯度电子工业用工序药品。
经营品种有:硝酸、盐酸、氨水

MC1是EL化学品的一种,是RCA替代型高性能清洗剂。由于它同时具备粒子和金属清除性,因此可减少RCA清洗工序,为客户降低总成本做出贡献。

  • 减少金属污染
  • 防止交叉污染

AM1是一种同时具备高度微粒清除性和金属清除性的EL化学品,是既可适用于批量清洗又可适用于单片清洗的RCA替代型高性能清洗剂。并且对硅无腐蚀作用,因此作为金属栅用清洗剂也同样具有出色性能。

  • 单片清洗剂(短时间内即可实现表面高度洁净)
  • 金属栅用清洗剂(防止对钨・硅造成腐蚀)

是半导体制造时在湿法蚀刻工程中所使用的EL化学品。我们经营下述蚀刻液。
Si蚀刻液、Al蚀刻液