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aquaSAVE是用于电子束光刻工艺中的抗静电剂,能有效防止光刻胶表面的静电积聚。应用于尖端光掩模制造领域,有望改善因静电积累所带来的结构损伤问题。

半导体电路形成时使用的光致抗蚀剂用感光性聚合物。
伴随电路图案尺寸的微细化,对应更加严格的质量要求(高纯度化、低金属化)。
承接范围涵盖从聚合物的设计到试制、量产。

aquaPASS是一种水性抗静电剂,其主要成分是聚苯胺类的水溶性导电聚合物,具有膜厚易控制,导电性良好,透明性极佳,受环境湿度影响小的特点。
通过涂布在薄膜或塑料基材上,可防止因静电引起的异物附着。

在半导体生产中有一道工序是Cu/Low-k膜CMP后进行清洗。技术被要求在基板不造成腐蚀、损坏的基础,再加上可去除Cu配线及Low-k膜上残留的研磨液有机残渣或粒子。三菱化学生产的MXC-SDR4便是为满足这些要求,可达到高清洗效果的电子工业用洗涤剂。 优点: ・粒子去除性强 ・有效去除有机残渣 ・降低Cu配线的电偶腐蚀 ・降低Low-k损伤 ・提高Low-k表面润湿性

在半导体生产中的硅晶片洗涤工序,应对半导体线路微细化进程的不断发展,对粒子、金属污染的除去要求极高。三菱化学生产的Star Series便是可满足这些要求,金属杂质在10ppt以下的高纯度电子工业用工序药品。
经营品种有:硝酸、盐酸、氨水

MC1是EL化学品的一种,是RCA替代型高性能清洗剂。由于它同时具备粒子和金属清除性,因此可减少RCA清洗工序,为客户降低总成本做出贡献。

  • 减少金属污染
  • 防止交叉污染

AM1是一种同时具备高度微粒清除性和金属清除性的EL化学品,是既可适用于批量清洗又可适用于单片清洗的RCA替代型高性能清洗剂。并且对硅无腐蚀作用,因此作为金属栅用清洗剂也同样具有出色性能。

  • 单片清洗剂(短时间内即可实现表面高度洁净)
  • 金属栅用清洗剂(防止对钨・硅造成腐蚀)

是半导体制造时在湿法蚀刻工程中所使用的EL化学品。我们经营下述蚀刻液。
Si蚀刻液、Al蚀刻液、Au蚀刻液、Ag蚀刻液

氮化镓基板

氮化镓(Gallium Nitride,GaN)是镓的氮化物,是化合物半导体的一种,属于宽禁带半导体。
CAS No.25617-97-4,
EINECS Number 247-129-0
三菱化学制造的氮化镓(GaN)基板是利用公司多年研发的氢化物气相外延技术(HVPE)和化合物半导体加工技术生产出的高品质单晶基板。 其特点是具有均一且高品位的结晶性与表面质量。
广泛用作各种LED(白光LED、紫外光LED、紫光LED、蓝光LED)的基板、蓝光光头用的蓝紫光LD(激光二极管)以及微型投影仪用的绿色LD基板等。 此外,正在研究开发用于功率元器件及高频元器件等电子元器件的基板。目前还着手开发可实现高品质、高生产效率的氨热生长法。该方法是基于液相生长方式的氮化镓基板制造方法。