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聚碳酸酯二醇 (PCD) 是一种具有碳酸酯结构并在两端具有羟基的多元醇。与异氰酸酯化合物(例如,MDI、TDI、IPDI、H12MDI)等容易反应,一般可以得到具有耐久性和耐化学性等功能的聚氨酯树脂。植物来源的高性能聚碳酸酯二醇
BENEBiOL™是敝公司独有的制造技术所生产的PCD。根据各等级的“关键单体”所带来的特征,除了普通的PCD的特征之外,还可以将以往PCD的弱点即柔软性和耐药品性的并存、耐污染性、特征性的触感等优异的功能赋予聚氨酯树脂。
此外,由于使用一部分植物来源的原料,使得聚氨酯树脂BIO化,与石油与生物化,石油衍生的PCD相比,是一种可以减少二氧化碳排放并有助于可持续制造的材料。使用BENEBiOL™的聚氨酯树脂的特征
四氢呋喃均聚醚 PTMG
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PTMG(四氢呋喃均聚醚)是分子两端带有一级羟基的直链聚醚多元醇。它作为聚醚多元醇容易与异氰酸酯化合物(如MDI、TDI)等发生反应,生成具有优越特性的树脂。
- 等级:
- PTMG250、PTMG650、PTMG850、PTMG1000、PTMG1300、PTMG1500、PTMG1800、PTMG2000、PTMG3000、PTMG3200(商业化生产的新产品)
- CAS No.:
- 25190-06-1
- 化学物质审查管制法:
- (7)-129
- 有毒有害物质管制法:
- 不适用
- 消防法:
- 危险品第4类第3石油类 危险等级Ⅲ(PTMG250)
危险品第4类第4石油类 危险等级Ⅲ(PTMG650,850)
规定易燃物・易燃固体类(PTMG1000, 1300, 1500, 1800, 2000, 3000, 3200(商业化生产的新产品))
顺丁烯二酸酐 马来酸酐
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四氢呋喃(THF)
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N-甲基-2-吡咯烷酮 NMP
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γ-丁内酯 GBL
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12BG
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1,4-丁二醇 14BG
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旋转蚀刻装置的硅晶片蚀刻液 Si蚀刻系列
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Si蚀刻系列是用于旋转蚀刻装置的硅晶片蚀刻液,清除晶片背面的加工损坏层
合成纸 YUPO®
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