AM1是一种同时具备高度微粒清除性和金属清除性的EL化学品，是既可适用于批量清洗又可适用于单片清洗的RCA替代型高性能清洗剂。并且对硅无腐蚀作用，因此作为金属栅用清洗剂也同样具有出色性能。

  • 单片清洗剂（短时间内即可实现表面高度洁净）
  • 金属栅用清洗剂（防止对钨・硅造成腐蚀）

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特点

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AM1是一种既可适用于批量清洗又可适用于单片清洗的RCA替代型高性能清洗剂，其金属清除性、粒子清除性得到大幅提高。而且也可适用于对损伤非常敏感的金属栅处理过程。
作为一种具有划时代意义的EL化学品，AM1提高了晶片表面的粒子清除性，同时具有清除金属杂质且对硅不造成腐蚀的性能。也就是说，在RCA清洗等批量清洗工程中所必需的粒子清除和金属杂质清除这两个步骤得以一次性完成。其结果是可以简化清洗工程。

  • 作为单片清洗剂，短时间内即可实现表面高度洁净。
  • 作为金属栅用清洗剂，有助于防止对钨、对硅造成腐蚀。

用途

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RCA替代型清洗剂、金属栅用清洗剂

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三菱化学株式会社
Semiconductor Materials Dept.

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