ウエハ製造工程に安心してお使いいただけるよう、超高純度・低金属・低パーティクルを徹底管理したプロセス材料および消耗品を提供しております。
シリコンインゴット及びウエハ製造工程において、用途・条件に合わせた材料や技術を提案いたします。
詳しくはお気軽にお問合せください。

お問い合わせ[別窓表示]

お問い合わせ

シリコン インゴット製造工程

[閉じる]

三菱合成石英

合成石英粉 三菱合成石英

特徴:
超高純度の合成石英粉。高純度・低異物を要求される高機能石英ガラス(シリカガラス)の原料として最適です。
提供形態:
粉末(粒度 D50 [μm] 60-200)

三菱合成石英 製品ページ

ウエハ切断・加工工程

[閉じる]

高機能洗浄剤 MC1・AM1

特徴:
MC1は、ウエハー表面上のパーティクル除去性と、メタル不純物除去性を併せ持つEL薬品です。
AM1は、バッチ・枚葉洗浄共に適用可能な高性能RCA代替洗浄剤です。
提供形態:
溶液

電子工業用高純度プロセス薬品 EL塩酸

特徴:
三菱ケミカルの電子工業用高純度プロセス薬品は、10ppt以下のメタル不純物レベルの高純度性を備えています。
提供形態:
溶液

EL塩酸 製品ページ


窒化ガリウム(GaN)基板

特徴:
HVPEと呼ばれるエピタキシャル技術と化合物半導体の加工技術を用いた、高品質な単結晶基板です。
均一かつ高品位な結晶性と表面品質が特長です。
提供形態:
基板

窒化ガリウム(GaN)基板 製品ページ

製品に関するお問い合わせ


時差出勤・テレワークのため、お電話での対応が難しい場合があります。お問い合わせフォームをご利用ください。

三菱ケミカル株式会社
半導体市場向けソリューション担当

三菱ケミカル株式会社 半導体市場向けソリューションの製品一覧を見る[別窓表示]