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- 株式会社新菱
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TEL:093-643-2777
フォトレジスト用感光剤樹脂は、半導体、液晶の製造工程で使用される樹脂で、高精度、高安定性が要求される分野です。 ファインケミカル事業は、フォトレジスト用感光剤樹脂の開発段階から本格生産までを「迅速」「高純度」をモットーに幅広くお応えいたします。
特徴
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ファインケミカル事業では、豊富な技術とノウハウを持つ精密化学のプロ集団として、ファインケミカルの開発段階から本格生産まで「迅速」「高純度」「低不純物」をモットーに幅広く「お客様のご要求」にお応えいたします。 フォトレジスト用感光剤樹脂は、半導体、液晶の製造工程で使用される副資材で、高精度、高安定性が要求されます。 開発段階から本格生産まで幅広いニーズにお答えする生産体制を整え、徹底した品質保証体制で高品質製品を提供しています。
主な反応例
- 重合反応（ラジカル重合、縮重合反応、重付加反応）
- ホルミル化反応（Vilsmeier反応）
- アルキル化反応（ジメチル硫酸）
- 還元反応（Zn還元）
- エステル化反応
- エステル交換反応
- Wittig反応
製造設備
信頼度の高い最新鋭の設備を完備。25リットル～12,000リットルまで、要求数量に応じたフレキシブルな設備を有します。
お客様のご要望により、開発段階から本格生産までお応えいたします。
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反応器（攪拌槽） |
グラスライニング28基（50L～12㎥） |
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濾過機 |
遠心濾過機10基（32′～48′） SUSアフロンライニング |
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乾燥機 |
棚段式、コニカル式、撹拌式 |
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蒸留塔 |
7基（10～50段、SS、SUS） |
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UTT設備 |
冷凍設備（-15℃） |
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その他 |
50Lロータリーエバポレーター |
製造設備については、こちらをご覧ください。
用途
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フォトレジスト用感光剤樹脂は、製品の開発段階から本格生産まで幅広いニーズにお答えする生産体制を整え、高品質製品を提供しています。