当社製品「スラリー供給システム」は、半導体・太陽電池の基板などに用いられる結晶の表面を化学機械的にポリシッングするためのポリッシングスラリーを供給する装置です。

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■ スラリー供給システムとは

半導体・太陽電池の基板などに用いられる結晶の表面を化学機械的にポリッシングするためのポリッシングスラリーを供給する装置です。

(写真:スラリー供給システム)

 

 ■ 特長

・多様化する各種スラリー(シリカベース、セリウムベース、アルミナベース等)の対応
・スラリー物性を考慮した物性およびパーツ(タンク、ポンプ、バルブ、等)の採用
・自動洗浄システムによる定期洗浄でのポリッシングプロセスの安定化
・低コスト・省スペース
    :薬液の性状を良く理解し、最適なコスト・スペースをご提案いたします。
・大型容器の対応可能
・300mmプロセスへの適用実績多数あり

用途

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半導体製造設備

ラインナップ・仕様

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概略図

 



 

製品に関するお問い合わせ


三菱ケミカルエンジニアリング株式会社
  • TEL:03-6262-0011

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