| 平成12年5月25日 |
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| フォトレジスト事業の譲渡について |
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| 三菱化学株式会社 |
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三菱化学株式会社(本社:千代田区丸の内、社長:正野 寛治)は、この度米国シプレイ社(Shipley Company L.L.C、本社:米国マサチューセッツ州マールボロー市、最高経営責任者:
Pierre R.Brondeau)への半導体用フォトレジスト事業の譲渡につき合意致しました。 当社は、1987年(昭和62年)から半導体製造用のフォトレジスト事業に参入し、半導体の高容量化に合致した高解像度のフォトレジストを開発、製造、販売してまいりました。その間、1998年(平成10年)には、三養社(本社:大韓民国ソウル市、社長:金
)との合弁で韓国リソケム社(Lithochem Korea Co., Ltd. 本社:大韓民国天安市、社長:太田見義雄)を設立しております。
一方、シプレイ社は、ローム･アンド･ハース社(Rohm and Haas Company、本社:米国ペンシルバニア州フィラデルフィア市、最高経営責任者:Raj
L. Gupta)の全額出資子会社で、1963年(昭和38年)から半導体用フォトレジスト事業を全世界で行っております。
当社は、昨年末に策定した中期計画に沿って「選択と集中」を進めておりますが、その一環として、今回の事業譲渡を行うこととしたものです。一方、シプレイ社は、当社からの事業譲受により、今後マーケットの急拡大が見込めるアジア地域において強固な拠点を確保することとなります。
今回合意に至った事業譲渡の内容は、次の通りです。
1.三菱化学は、フォトレジストの営業権、知的財産権、黒崎事業所(福岡県北九州市)及び韓国リソケム社の製造、RD設備等をシプレイ社とその日本及び韓国の現地法人に譲渡する。
2.黒崎事業所のフォトレジスト製造設備の運転は、三菱化学が受託する。
今後両社は、必要な官辺手続等を経たのち、本年6月末を目標に、スムーズな事業移管を進めてまいります。
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| (1) |
社名 |
: |
Shipley Company L.L.C |
| (2) |
所在地 |
: |
米国マサチューセッツ州マールボロー市 |
| (3) |
社長 |
: |
Pierre R.Brondeau |
| (4) |
資本構成 |
: |
ローム&ハース社 100% |
| (5) |
従業員数 |
: |
約1，200名 |
| (6) |
売上高 |
: |
約1billion US$ |
| (7) |
事業内容 |
: |
マイクロエレクトロニクス関連資機材(フォトレジスト、ARCs、現像液等)、プリント回路基盤関連資機材他 |
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| 以 上 |
| [本件に関するお問い合わせ先] |
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三菱化学株式会社 広報室
TEL 03-3283-6274 |
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